申请/专利权人:瓦克化学股份公司
申请日:2018-04-18
公开(公告)日:2020-11-20
公开(公告)号:CN111971253A
主分类号:C01B33/04(20060101)
分类号:C01B33/04(20060101);C01B33/107(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.02.21#授权;2020.12.08#实质审查的生效;2020.11.20#公开
摘要:本发明涉及在流化床反应器中通过使含有氯化氢的反应气体与含有硅作为由粗粒粒级和细粒粒级组成的粒化混合物的接触组合物反应来制备通式HnSiCl4‑n和或HmCl6‑mSi2的氯硅烷的方法,其中n=1至4且m=0至4,其中所述细粒粒级的平均粒度d50,细小于所述粗粒粒级的平均粒度d50,粗。
主权项:1.一种在流化床反应器中通过使含氯化氢的反应气体与含有硅作为由粗粒粒级和细粒粒级组成的粒化混合物的接触组合物反应来制备通式HnSiCl4-n和或HmCl6-mSi2的氯硅烷的方法,其中n=1至4且m=0至4,其中所述细粒粒级的平均粒度d50,细小于所述粗粒粒级的平均粒度d50,粗。
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