申请/专利权人：深圳市原速光电科技有限公司

申请日：2020-04-27

公开（公告）日：2021-01-12

公开（公告）号：CN212335284U

主分类号：C23C16/455(20060101)

分类号：C23C16/455(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.01.12#授权

摘要：本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统，其中，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；隔板，盖设于所述扩散槽的槽口，并与所述扩散槽的内壁围合形成扩散腔，所述隔板开设有与所述扩散腔连通的开口，所述供气孔与所述扩散腔连通；及扩散板，设于所述扩散腔内，并将所述扩散腔分隔为两个扩散室，所述扩散板开设有多个扩散孔，多个所述扩散孔连通两个所述扩散室。本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置升膜材表面与前驱体或反应物接触反应的充分性。

主权项：1.一种薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；隔板，盖设于所述扩散槽的槽口，并与所述扩散槽的内壁围合形成扩散腔，所述隔板开设有与所述扩散腔连通的开口，所述供气孔与所述扩散腔连通；及扩散板，设于所述扩散腔内，并将所述扩散腔分隔为两个扩散室，所述扩散板开设有多个扩散孔，多个所述扩散孔连通两个所述扩散室。

全文数据：

权利要求：

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