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【发明公布】抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法_东京应化工业株式会社_201980058919.7 

申请/专利权人:东京应化工业株式会社

申请日:2019-08-29

公开(公告)日:2021-04-13

公开(公告)号:CN112654926A

主分类号:G03F7/004(20060101)

分类号:G03F7/004(20060101);G03F7/038(20060101);G03F7/039(20060101)

优先权:["20180914 KR 10-2018-0110032"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.04.30#实质审查的生效;2021.04.13#公开

摘要:本发明涉及一种抗蚀剂组合物,含有基材成分A、产酸剂成分B、及混合了由下述式s1表示的有机溶剂S1的混合溶剂S,所述产酸剂成分B含有由下述式b1表示的化合物B1。式中,Rb1为芳基。Rb2以及Rb3分别独立地为脂肪族烃基。Lb1、Lb2以及Lb3分别独立地为2价的连接基团或单键。X‑是反荷阴离子。R1及R2分别独立地为碳数为1~6的烷基。

主权项:1.一种抗蚀剂组合物,是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物,其特征在于,含有:基材成分A,对显影液的溶解性因酸的作用而变化;产酸剂成分B,通过曝光产生酸;以及混合溶剂S,混合了由下述式s1表示的有机溶剂S1,所述产酸剂成分B含有由下述式b1表示的化合物B1,[化1] 式中,Rb1为可具有取代基的芳基,Rb2以及Rb3分别独立地为脂肪族烃基,Rb2与Rb3可以相互键合而形成环结构,Lb1、Lb2以及Lb3分别独立地为2价的连接基团或单键,X-是反荷阴离子,[化2] 式中,R1及R2分别独立地为碳数为1~6的烷基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东京应化工业株式会社 抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

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