申请/专利权人：麦斯克电子材料股份有限公司

申请日：2021-05-21

公开（公告）日：2021-12-28

公开（公告）号：CN215328349U

主分类号：C23C16/44(20060101)

分类号：C23C16/44(20060101);C23C16/40(20060101);C23C16/52(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.12.28#授权

摘要：一种LPCVD炉用TEOS气体生成装置，包括用于盛装TEOS液体的TEOS罐和用于加热TEOS罐的壳体，所述壳体包括设置在壳体外层的保温层和设置在壳体内层的加热层，加热层围成用于放置TEOS罐的凹槽，加热层内均布有加热电阻丝和用于检测加热层内温度的温度传感器。本实用新型能够为TEOS液体提供均匀、稳定的加热环境，产生稳定流量的TEOS气体，保证半导体硅抛光片的产品质量。

主权项：1.一种LPCVD炉用TEOS气体生成装置，其特征在于，包括用于盛装TEOS液体的TEOS罐（5）和用于加热TEOS罐（5）的壳体，所述壳体包括设置在壳体外层的保温层（8）和设置在壳体内层的加热层（9），加热层（9）围成用于放置TEOS罐（5）的凹槽，加热层（9）内均布有加热电阻丝（10）和用于检测加热层（9）内温度的温度传感器（4）。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 麦斯克电子材料股份有限公司 一种LPCVD炉用TEOS气体生成装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD