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【发明授权】分离结构、污水储存装置和表面清洁设备_北京顺造科技有限公司_202110609170.X 

申请/专利权人:北京顺造科技有限公司

申请日:2021-06-01

公开(公告)日:2022-06-21

公开(公告)号:CN113303731B

主分类号:A47L11/29

分类号:A47L11/29;A47L11/40

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.06.21#授权;2021.09.14#实质审查的生效;2021.08.27#公开

摘要:本公开提供一种分离结构,其包括:罩体,释放部,所述释放部能够在第一位置和第二位置之间运动,当所述释放部从第二位置运动至第一位置时,所述释放部的一端伸出至所述罩体外部,所述释放部的另一端向罩体内收缩;当所述释放部从第一位置运动至第二位置时,所述释放部的一端向罩体内收缩,所述释放部的另一端伸出至所述罩体的外部;以及分离部,所述分离部可分离地设置于所述罩体;其中,当所述释放部从第一位置运动至第二位置时,允许分离结构从表面清洁设备拆卸;并且释放所述分离部,以允许分离部远离所述罩体。本公开还提供一种污水储存装置及表面清洁设备。

主权项:1.一种分离结构,其特征在于,包括:罩体,所述罩体内形成气体流通通道,当向罩体的气体流通通道的一端施加负压时,使得气体流通通道内的气体流动;所述罩体的底部形成有开口,并使得所述罩体的底部的开口形成为气体流通通道的入口;释放部,所述释放部能够在第一位置和第二位置之间运动,当所述释放部从第二位置运动至第一位置时,所述释放部的一端伸出至所述罩体外部,所述释放部的另一端向罩体内收缩;当所述释放部从第一位置运动至第二位置时,所述释放部的一端向罩体内收缩,所述释放部的另一端伸出至所述罩体的外部;以及分离部,所述分离部可分离地设置于所述罩体;所述分离部的底部形成有进入孔,以使得待分离的流体通过进入孔进入分离部;所述待分离的流体中的气体从所述气体流通通道排出;其中,当所述释放部从第一位置运动至第二位置时,允许分离结构从表面清洁设备拆卸;并且释放所述分离部,以允许分离部远离所述罩体。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京顺造科技有限公司 分离结构、污水储存装置和表面清洁设备

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