申请/专利权人：东方晶源微电子科技(上海)有限公司

申请日：2022-11-03

公开（公告）日：2023-01-20

公开（公告）号：CN115629516A

主分类号：G03F1/36

分类号：G03F1/36;G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.11.10#实质审查的生效;2023.01.20#公开

摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种版图提取方法、版图提取系统及计算机介质，本发明的版图提取方法包括以下步骤：获取初始设计版图，并将初始设计版图进行打断，获取被打断的版图；获取与初始设计版图对应的掩膜版；利用掩膜版进行理想条件曝光得到需求轮廓；对被打断的版图与需求轮廓的相对位置进行分析并沿着预设方向移动被打断的版图直到相对位置差异达到预期效果；将被打断的版图移动后进行提取得到优化版图。对被打断的版图向需求轮廓的移动，满足掩膜版的曝光轮廓与版图之间的一致性，提升最终电路的电学性能，进而保护电路，进一步改善光学临近修正的结果。

主权项：1.一种版图提取方法，其特征在于包括以下步骤：获取初始设计版图，并将初始设计版图进行打断，获取被打断的版图；获取与初始设计版图对应的掩膜版；利用掩膜版进行理想条件曝光得到需求轮廓；对被打断的版图与需求轮廓的相对位置进行分析并沿着预设方向移动被打断的版图直到相对位置差异达到预期效果；将移动后的被打断的版图进行提取得到优化版图。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东方晶源微电子科技(上海)有限公司 版图提取方法、版图提取系统及计算机介质

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