申请/专利权人：深圳市雕拓科技有限公司

申请日：2021-11-10

公开（公告）日：2023-03-14

公开（公告）号：CN114114478B

主分类号：G02B3/00

分类号：G02B3/00;G02B27/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.03.14#授权;2022.03.18#实质审查的生效;2022.03.01#公开

摘要：本发明提供一种透明光学元件以及光场透过透明光学元件的调整方法，所述调整方法包括如下步骤：S1：对进入透明光学元件的微透镜阵列的入射光进行光场追迹；S2：第一入射光场通过透明光学元件的微透镜阵列的出射光进行光场追迹；S3：第二入射光场穿过观察者的晶状体并形成出射光，对出射光进行追迹，且出射光通过观察者视网膜并形式投射光场；S4：获得观察者视网膜上分布的光场强度；S5：根据观察者视网膜上分布的光场强度得到观察者视网膜像素强度分布的均方误差，以均方误差最小值为目标进行优化。本发明利用随机分布的微透镜阵列利用反射的原理来实现消眩光，光场经过微透镜表面，使得镜面反射能量大幅降低，达到防眩光的效果。

主权项：1.一种光场透过透明光学元件的调整方法，所述透明光学元件包括微透镜阵列，其特征在于，包括如下步骤：S1：对进入透明光学元件（20）的微透镜阵列的入射光进行光场追迹，形成第一入射光场；S2：第一入射光场通过透明光学元件（20）的微透镜阵列的出射光进行光场追迹，形成第二入射光场；S3：第二入射光场穿过观察者（30）的晶状体并形成出射光，对出射光进行追迹，且出射光通过观察者视网膜（40）并形式投射光场；S4：获得观察者视网膜（40）上分布的光场强度；S5：根据观察者视网膜（40）上分布的光场强度得到观察者视网膜像素强度分布的均方误差，以均方误差最小值为目标进行优化；观察者视网膜像素强度分布的均方误差的计算方法如公式（5）：MSE=5MSE为观察者视网膜的像素强度分别的均方误差；M为观察者视网膜上的像素点，为每个像素点上的光强度分布，为像素点的平均值；步骤S5中，还包括取得优化后根据微透镜阵列的每个微透镜的计算公式，获得所述观察者视网膜的像素强度分别的均方误差的最小值，据此对微透镜阵列的每个微透镜进行优化调整，其中“优化调整”的具体步骤为：所述计算公式为公式（4），公式（4）具体为： 4其中，为透明光学元件的微透镜阵列的每个微透镜的高度；为透明光学元件的微透镜阵列的每个微透镜的曲率的变量；为透明光学元件的微透镜阵列的每个微透镜的高度调整变量，为透明光学元件的微透镜阵列的每个微透镜的编号，（x,y）为每个微透镜面型的位置坐标；对于不同的和，在观察者视网膜上就能得到不同的观察者视网膜上分布的光场强度；根据得出了不同的观察者视网膜上分布的光场强度的分布，则进行优化函数和均匀度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市雕拓科技有限公司 一种透明光学元件以及光场透过透明光学元件的调整方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD