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【发明公布】放射源的空间定位方法及定位系统_同方威视技术股份有限公司_202111055203.7 

申请/专利权人:同方威视技术股份有限公司

申请日:2021-09-09

公开(公告)日:2023-03-14

公开(公告)号:CN115793019A

主分类号:G01T1/169

分类号:G01T1/169;G01T1/29

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要:本申请涉及一种放射源的空间定位方法及定位系统。该空间定位方法包括:提供第一探测装置和第二探测装置,呈预定角度间隔设置,第一探测装置具有第一探测范围,第二探测装置具有第二探测范围,第一探测范围与第二探测范围相交形成定位探测区;在定位探测区分别获取包括放射源的第一图像和第二图像;在第一探测范围以第一角分辨率为间距进行等分形成的多条等分线中获取与第一图像中的放射源相交的第一等分线的位置;在第二探测范围以第二角分辨率为间距进行等分形成的多条等分线中获取与第二图像中的放射源相交的第二等分线的位置;根据第一等分线的位置和第二等分线的位置获取第一等分线与第二等分线的交点位置,则交点位置即为放射源的空间位置。

主权项:1.一种放射源的空间定位方法,其特征在于,包括:提供第一探测装置和第二探测装置,所述第一探测装置与所述第二探测装置之间呈预定角度间隔设置,所述第一探测装置具有第一探测范围,所述第二探测装置具有第二探测范围,所述第一探测范围与所述第二探测范围相交的区域形成定位探测区;通过所述第一探测装置和所述第二探测装置在所述定位探测区分别获取包括放射源的第一图像和第二图像;在所述第一探测范围以第一角分辨率为间距进行等分形成的多条第一等分线中,获取与所述第一图像中的所述放射源相交的所述第一等分线的位置,以及在所述第二探测范围以第二角分辨率为间距进行等分形成的多条第二等分线中,获取与所述第二图像中的所述放射源相交的所述第二等分线的位置;根据所述第一等分线的位置和所述第二等分线的位置获取所述第一等分线与所述第二等分线的交点位置,则所述交点位置即为所述放射源的空间位置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 同方威视技术股份有限公司 放射源的空间定位方法及定位系统

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