申请/专利权人：家登精密工业股份有限公司

申请日：2021-02-08

公开（公告）日：2023-03-21

公开（公告）号：CN113443253B

主分类号：G03F1/66

分类号：G03F1/66;H01L21/673;H01L21/677

优先权：["20200324 US 62/994242"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.03.21#授权;2021.10.22#实质审查的生效;2021.09.28#公开

摘要：本公开公开了一种容器系统，包括内基座，内基座被配置为接收工件，内基座包括对应于工件容纳区域的第一处理区域；围绕内基座的第一处理区域布置的第二处理区域；以及布置在第一处理区域和第二处理区域之间的边界区域处的工件支撑柱。

主权项：1.一种容器系统，其特征在于：所述容器系统包括：内基座，所述内基座被配置为接收工件，所述内基座包括对应于工件容纳区域的第一处理区域，围绕所述内基座的所述第一处理区域地布置的第二处理区域，以及布置在所述第一处理区域和所述第二处理区域之间的边界区域处的工件支撑柱；其中，所述内基座的所述第一处理区域包括亲水处理区域；以及其中，所述内基座的所述第二处理区域包括疏水处理区域。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 家登精密工业股份有限公司 容器系统

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