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【发明授权】一种SiF4与HF混合气体的分离方法及系统_四川大学_202110614281.X 

申请/专利权人:四川大学

申请日:2021-06-02

公开(公告)日:2023-03-31

公开(公告)号:CN113233422B

主分类号:C01B7/19

分类号:C01B7/19;C01B33/03

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.03.31#授权;2021.08.27#实质审查的生效;2021.08.10#公开

摘要:本发明公开了一种SiF4与HF混合气体的分离方法及系统,是将SiF4与HF混合气体和氢气一起通入微波加热装置中,通过所述微波加热装置将四氟化硅、氟化氢和氢气的混合气体快速加热至600℃‑1200℃,生成硅和氟化氢气体;其后使生成的硅、氟化氢气体以及未反应完的四氟化硅气体和氢气共同进入气固分离装置中,将硅分离出来,剩余气体一同通入冷凝器中;氟化氢气体被冷凝为氟化氢冷凝液体进入精馏塔中进行进一步纯化得到高纯度氟化氢,未反应完的氢气和四氟化硅气体重新返回至所述微波加热装置中进行反应;本发明通过将氢气和四氟化硅气体在系统中循环,使四氟化硅不断还原生成氟化氢,再通过冷凝、精馏得到高纯度的氟化氢。

主权项:1.一种SiF4与HF混合气体的分离方法,其特征在于,涉及微波加热装置(1)、气固分离装置(2)、冷凝器(3)和精馏塔(4),所述方法包含以下步骤:S1、将四氟化硅与氟化氢混合气体和氢气通入微波加热装置(1)中,通过所述微波加热装置(1)将所述四氟化硅、氟化氢和氢气的混合气体快速加热至600℃-1200℃;S2、将所述微波加热装置(1)加热后的混合气体和生成的硅通入气固分离装置(2)进行分离;S3、将所述气固分离装置(2)分离出的混合气体通入冷凝器(3)中;所述冷凝器(3)冷凝氟化氢气体时的冷凝温度为-13℃至-8℃,压强为0.4MPa至0.6MPa;S4、将冷凝器(3)冷凝后剩余的气体通入所述微波加热装置(1)重复步骤S1-S3,将所述冷凝器(3)产生的液体通入精馏塔(4)中进行精馏;S5、将精馏塔(4)中分离出的气体通入所述微波加热装置(1)重复步骤S1-S4,将精馏塔(4)分离出的液体进行收集。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 四川大学 一种SiF4与HF混合气体的分离方法及系统

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