申请/专利权人：福州大学;闽都创新实验室

申请日：2021-01-27

公开（公告）日：2023-04-07

公开（公告）号：CN112817213B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G09F9/33;G09F9/302;H01L21/67;H01L25/00;H01L25/16;H01L33/48;H01L33/50;H01L33/56

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.04.07#授权;2021.06.04#实质审查的生效;2021.05.18#公开

摘要：本发明提出一种基于RGBW的Micro‑LED制备系统，包括显影机、刻蚀机、光源模组，还包括在光源模组发光方向上顺序设置的掩膜版和覆有光刻胶的阵列基板；光源模组包括四组光源，每组光源对应显示像素内的一个子像素结构，掩膜版包括多个透光区，每个透光区的中心在阵列基板上的投影均位于与该透光区相对应的子像素结构的中心；当对光刻胶曝光时，四组光源同时透过掩膜版透光区对子像素结构处的光刻胶进行曝光，各组光源的曝光光照强度、曝光光照时长根据与该光源对应的子像素结构需填充的量子点胶体体积决定；显影机、刻蚀机对曝光后的阵列基板进行后续加工以使储液槽成型；本发明可解决由于对量子点的封胶厚度不同导致子像素发光亮度不均衡的问题。

主权项：1.一种基于RGBW的Micro-LED制备系统，用于在阵列基板上制备Micro-LED显示像素中四个子像素结构内的储液槽，其特征在于：所述制备系统包括显影机、刻蚀机、用于光刻胶曝光的光源模组，还包括在光源模组发光方向上顺序设置的掩膜版和覆有光刻胶的阵列基板；所述光源模组包括光线方向不同的四组光源，每组光源对应显示像素内的一个子像素结构，掩膜版包括多个透光区，在光源模组照射下，每个透光区的中心在阵列基板上的投影均位于与该透光区相对应的子像素结构的中心；当对光刻胶曝光时，四组光源同时透过掩膜版透光区对阵列基板子像素结构处的光刻胶进行曝光，各组光源的曝光光照强度、曝光光照时长根据与该光源对应的子像素结构需填充的量子点胶体体积决定；所述显影机、刻蚀机对曝光后的阵列基板进行后续加工以使储液槽成型；所述四个子像素结构为填充有不同体积量子点胶体的红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素以及白色子像素；每个子像素结构包括一个储液槽，每个储液槽下方设置UV-LED，每个所述储液槽中填充有量子点胶体；每个所述子像素的长和宽分别为第一长度a和第一宽度b，位于同一个所述显示像素中的所述子像素之间的间隙为第一间隙q；四组所述光源的入射方向与所述阵列基板的夹角均相等为第一角度θ；当对光刻机曝光时，由于红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素、白色子像素处的光刻胶承受的曝光光照强度、曝光光照时长不同，因此红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素、白色子像素内最终成型的储液槽深度不同；当通过控制所述掩膜版，使所述掩膜版与所述阵列基板之间的第一距离d保持不变时，可通过控制所述光源模组，调整四组所述光源光线的入射方向，改变所述第一角度θ使四组所述光源分别对显示像素内不同的子像素进行曝光；在进行全部子像素的曝光时不进行对位以避免对位误差导致的曝光不完全，只进行一次曝光；光源光线朝向上，所述显示像素包括的四个所述子像素结构为等大的矩形，且所述子像素和所述掩膜版上对应的透光区大小相同；所述显示像素在阵列基板处纵向横向阵列排布；在各显示像素内，不同颜色子像素结构的分布位置相同；所述第一角度θ、所述第一距离d、所述第一长度a、所述第一宽度b以及所述第一间隙q具有的关系。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 福州大学;闽都创新实验室 一种基于RGBW的Micro-LED制备系统

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD