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【发明公布】无电解镀铜液_美录德有限公司_202180060016.X 

申请/专利权人:美录德有限公司

申请日:2021-09-03

公开(公告)日:2023-05-30

公开(公告)号:CN116194618A

主分类号:C23C18/40

分类号:C23C18/40

优先权:["20201110 JP 2020-187294"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.06.16#实质审查的生效;2023.05.30#公开

摘要:本发明的目的是提供一种无电解镀铜液,其即使是以中性范围使用的无电解镀铜液,溶液稳定性也优异,并且易于组成管理。为了实现该目的,采用一种无电解镀铜液,其特征在于,其是以中性范围使用的还原型无电解镀铜液,所述无电解镀铜液含有成为铜离子供给源的铜盐、用于螯合铜离子的络合剂、还原剂、表面活性剂、含氮的芳香族化合物,并且含有作为析出稳定剂的碲化合物,所述无电解镀铜液的溶液pH值为6~9。

主权项:1.一种无电解镀铜液,其特征在于,其是以中性范围使用的还原型无电解镀铜液,所述无电解镀铜液含有成为铜离子供给源的铜盐、用于螯合铜离子的络合剂、还原剂、表面活性剂、含氮的芳香族化合物,并且含有作为析出稳定剂的碲化合物,所述无电解镀铜液的溶液pH值为6~9。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 美录德有限公司 无电解镀铜液

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