申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

申请日：2022-12-06

公开（公告）日：2023-06-06

公开（公告）号：CN116227422A

主分类号：G06F30/398

分类号：G06F30/398

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.06.23#实质审查的生效;2023.06.06#公开

摘要：本发明公开了一种DRC验证图形的建模方法，包括：步骤一、读取文本设计规则。步骤二、对文本设计规则进行识别，包括：步骤21、根据测试类型的描述格式提取文本设计规则中所包含的测试类型。步骤22、根据文本设计规则中的图层描述识别出文本设计规则中所包含的图层对象。步骤三、根据文本设计规则中所包含的测试类型和图层对象建立标准DRC验证模型。本发明能基于读取的文本设计规则建立对应的标准DRC验证模型，从而能实现快速、准确的批量化产生DRC验证图形。

主权项：1.一种DRC验证图形的建模方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、读取文本设计规则；步骤二、对所述文本设计规则进行识别，包括如下分步骤：步骤21、根据测试类型的描述格式提取所述文本设计规则中所包含的测试类型；步骤22、根据所述文本设计规则中的图层描述识别出所述文本设计规则中所包含的图层对象；步骤三、根据所述文本设计规则中所包含的所述测试类型和所述图层对象建立标准DRC验证模型。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海华虹宏力半导体制造有限公司 DRC验证图形的建模方法

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