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【发明公布】DRC验证图形的形成方法及DRC验证文件的形成方法_芯联先锋集成电路制造(绍兴)有限公司_202311779609.9 

申请/专利权人:芯联先锋集成电路制造(绍兴)有限公司

申请日:2023-12-22

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN117725876A

主分类号:G06F30/392

分类号:G06F30/392;G06F30/398

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要:本发明提供了一种DRC验证图形的形成方法及DRC验证文件的形成方法,应用于半导体技术领域;由于本发明所提供的DRC验证图形的形成过程均是基于实际待验证版图的真实环境,因此实现了提升DRC验证图形以及包含该DRC验证图形的文件质量,扩展适用范围的目的,并且,由于其是根据对实际待验证版图设计规则的拆解识别所得到图层维度的第一图形密度和图案维度的第二图形密度的结合,而形成所述验证图形及其对应的验证文件,亦即实现了降低版图图形密度DRC验证的难度和多条件测试的目的,之后再进一步采用python编程语言开发,进而实现节省人力物力资源,降低DRC验证文件开发成本,减少DRC验证文件验证时间,以及DRC验证图形的绘制效率和自动化的目的。

主权项:1.一种DRC验证图形的形成方法,其特征在于,包括:获取待验证版图的设计规则;基于所述设计规则,识别出所述待验证版图中一图层的第一图形密度、以及其内包含的每一图案的第二图形密度;在符合DRC验证图形设计要求的情况下,基于所述第一图形密度和或至少一所述第二图形密度,确定出组成所述DRC验证图形的单元图案的尺寸及其所包含的多个子图案的尺寸和其相对位置;确定除所述多个子图案外所述单元图案的剩余区域的尺寸,并在所述剩余区域内加入余量子图案;按照预设单元图案的拼接规则,将多个加入余量子图案后的单元图案进行拼接,以得到正确验证图形和或错误验证图形;其中,所述第一图形密度为所述图层内包含的所有所述图案的面积之和占该图层的总面积的百分比,所述第二图形密度为一所述图案的面积占该图层的总面积的百分比。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 芯联先锋集成电路制造(绍兴)有限公司 DRC验证图形的形成方法及DRC验证文件的形成方法

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