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【发明公布】一种基于Cadence SiP Digital Layout的DRC规则检查方法_杭州电子科技大学_202311798053.8 

申请/专利权人:杭州电子科技大学

申请日:2023-12-25

公开(公告)日:2024-03-05

公开(公告)号:CN117648901A

主分类号:G06F30/392

分类号:G06F30/392;G06F30/394;G06F30/398

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.22#实质审查的生效;2024.03.05#公开

摘要:本发明公开一种基于CadenceSiPDigitalLayout的设计规则检查方法。该方法是通过编写SiP工具插件的方法对void间距进行了全面的检查,分为shape之间的void检查、shape轮廓的void检查以及shape内部void的检查三个部分,并将不符合规则的版图区域信息输出或者在版图上进行标记。本发明解决了现有的CadenceSiPDigitalLayout检查void间距情况单一,无法满足实际基板版图设计检查需要的问题,确保设计的可制造性和性能,减少后期修复问题的成本,缩短了SiP设计制造的周期。

主权项:1.一种基于CadenceSiPDigitalLayout的DRC规则检查方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤S01:获取DRC规则文件中的层信息、对void设计规则所规定的void间距最小值;所述层信息包括版图中的每个层的层名称;步骤S02:对步骤S01中获得的层信息和对void设计规则所规定的最小值进行void的间距检查,得到不符合DRC规则的版图坐标;步骤S03:利用不符合DRC规则的所述版图坐标,得到不符合规则文件要求的版图区域,作为错误信息输出。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 杭州电子科技大学 一种基于Cadence SiP Digital Layout的DRC规则检查方法

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