申请/专利权人：上海华力微电子有限公司

申请日：2020-12-25

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN112685980B

主分类号：G06F30/31

分类号：G06F30/31;G06F40/169

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.12#授权;2021.05.07#实质审查的生效;2021.04.20#公开

摘要：本发明提供一种版图DRC违例的对比和定位方法，生成包含原版违例坐标的原版违例坐标文件和包含新版违例坐标的新版违例坐标文件；判断违例类型是否一致；若一致且全为多边形，则将原版违例坐标文件和新版违例坐标文件分别转换为原版layout文件和新版layout文件，并对比并将对比后不同的多边形高亮定位；若违例坐标类型一致且均为边，对比后将不同的边高亮定位；若违例坐标类型不一致，则先将违例坐标转换为一致的类型。本发明的版图DRC违例的对比和定位方法，能够高效实现版图违例的对比和定位，避免了违例数量过多时，人工对比的耗时耗力和易错的弊端，从而提高DRC开发的效率和准确性，缩短项目周期，降低研发成本。

主权项：1.一种版图DRC违例的对比和定位方法，其特征在于，至少包括：步骤一、提供用于DRC评估的版图，利用原版DRC方法和新版DRC方法分别对所述版图进行评估，分别生成包含原版违例坐标的原版违例坐标文件和包含新版违例坐标的新版违例坐标文件；步骤二、判断所述原版违例坐标和所述新版违例坐标的违例类型是否一致；若违例类型一致且全为多边形，则将所述原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件分别转换为原版layout文件和新版layout文件，之后将所述原版layout文件和新版layout文件进行对比并将对比后不同的多边形高亮定位；或者利用坐标对比并过滤的方法将所述原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件进行对比，并将对比后不同的多边形高亮定位；若违例坐标类型一致且均为边，则利用坐标对比并过滤的方法将所述原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件进行对比，并将对比后不同的边高亮定位；若违例坐标类型不一致，则先将违例坐标转换为一致的类型，得到转换后类型一致的原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件；对于转换后违例类型一致且全为多边形的原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件将转换后类型一致的所述原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件分别转存为原版layout文件和新版layout文件，之后利用所述原版layout文件和新版layout文件进行对比并将对比后不同的多边形高亮定位；或者利用坐标对比并过滤的方法将所述原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件进行对比，并将对比后不同的多边形高亮定位；对于转换后违例类型一致且均为边的原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件，则利用坐标对比并过滤的方法将所述原版违例坐标文件和所述新版违例坐标文件进行对比，并将对比后不同的边高亮定位。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海华力微电子有限公司 一种版图DRC违例的对比和定位方法

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