申请/专利权人：东方晶源微电子科技(上海)有限公司

申请日：2023-09-18

公开（公告）日：2023-12-22

公开（公告）号：CN117270310A

主分类号：G03F1/36

分类号：G03F1/36;G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.01.09#实质审查的生效;2023.12.22#公开

摘要：本发明涉及光刻掩模图形筛选检测技术领域，其特别涉及一种优化图形筛选和DRC优化的方法、装置和介质。本发明提供的优化图形筛选的方法，包括以下步骤：获取完整掩模版图并将其划分为多个图形框，并标记所有图形框的边界信息；记录图形框内的图形信息，形成第一图形信息数据；根据所标记的边界信息与第一图形信息数据，记录被分割的图形信息，形成第二图形信息数据；接收特定图形选取指令，根据所述第二图形信息数据筛选出被分割的特定图形并形成第三图形信息数据。使用该方法，可完整、准确的筛选出被图形框边界分割的特定图形，解决了现有技术中图形筛选精度差、不全面的问题。

主权项：1.一种优化图形筛选的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、获取完整掩模版图并将其划分为多个图形框，并标记所有图形框的边界信息；S2、记录图形框内的图形信息，形成第一图形信息数据；根据所标记的边界信息与第一图形信息数据，记录被分割的图形信息，形成第二图形信息数据；S3、接收特定图形选取指令，根据所述第二图形信息数据筛选出被分割的特定图形并形成第三图形信息数据。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东方晶源微电子科技(上海)有限公司 优化图形筛选和DRC优化的方法、装置和介质

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