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【发明公布】一种SiGe HBT总剂量效应感生缺陷分布的检测方法_湘潭大学_202310201387.6 

申请/专利权人:湘潭大学

申请日:2023-03-03

公开(公告)日:2023-07-07

公开(公告)号:CN116399946A

主分类号:G01N29/04

分类号:G01N29/04;G01N27/00;G01N27/26;G01N27/30

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.07.25#实质审查的生效;2023.07.07#公开

摘要:本发明提出的一种SiGeHBT总剂量效应感生缺陷分布的检测方法,包括:在第一预设温度下,利用1f噪声对待测SiGeHBT进行检测,获得第一1f噪声参数;在第二预设温度下,利用1f噪声对待测SiGeHBT进行检测,获得第一1f噪声参数,第二预设温度低于第一预设温度且低于常温;在预设辐照条件和第一预设温度下,利用1f噪声对待测SiGeHBT进行检测,获得第三1f噪声参数;在预设辐照条件和第二预设温度下,利用1f噪声对待测SiGeHBT进行检测,获得第四1f噪声参数;根据第一1f噪声参数、第二1f噪声参数、第三1f噪声参数及第四1f噪声参数,确定低温条件下待测SiGeHBT中总剂量效应感生缺陷分布变化。

主权项:1.一种SiGeHBT总剂量效应感生缺陷分布的检测方法,其特征在于,包括:在第一预设温度下,利用1f噪声对待测SiGeHBT进行检测,获得第一1f噪声参数;在第二预设温度下,利用1f噪声对待测SiGeHBT进行检测,获得第一1f噪声参数,所述第二预设温度低于所述第一预设温度且低于常温;在预设辐照条件和所述第一预设温度下,利用1f噪声对所述待测SiGeHBT进行检测,获得第三1f噪声参数;在预设辐照条件和所述第二预设温度下,利用1f噪声对所述待测SiGeHBT进行检测,获得第四1f噪声参数;根据所述第一1f噪声参数、第二1f噪声参数、第三1f噪声参数及第四1f噪声参数,确定低温条件下所述待测SiGeHBT中总剂量效应感生缺陷分布变化。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 湘潭大学 一种SiGe HBT总剂量效应感生缺陷分布的检测方法

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