申请/专利权人：大同金属工业株式会社

申请日：2021-11-04

公开（公告）日：2023-08-04

公开（公告）号：CN116547242A

主分类号：C02F1/48

分类号：C02F1/48

优先权：["20201106 JP 2020-186071"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.08.22#实质审查的生效;2023.08.04#公开

摘要：本发明提供一种CDI装置，具备：正极和负极，使活性物质38a、38b相对配置并在其间形成流路，基于在细孔42内形成于活性物质38a、38b表面的双电层43来吸附离子44；浓度控制装置，将流入流路的液体中含有的离子的浓度维持在所确定的阈值以上；以及控制电路，将施加于正极和负极的电位控制为低于根据所检测的离子的浓度所确定的上限值。由此，能够提供一种避免电解的同时进一步高效地吸附离子的CDI装置。

主权项：1.一种CDI装置，其特征在于，具备：正极和负极，使活性物质相对配置并在其间形成流路，基于在细孔内形成于活性物质表面的双电层来吸附离子；浓度控制装置，将流入所述流路的液体中含有的离子的浓度维持在所确定的阈值以上；以及控制电路，将施加于所述正极和所述负极的电位控制为低于根据所检测的离子的浓度所确定的上限值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 大同金属工业株式会社 CDI装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD