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【发明公布】一种针对异形中介面的非视域成像方法及装置_清华大学_202310203323.X 

申请/专利权人:清华大学

申请日:2023-03-06

公开(公告)日:2023-08-15

公开(公告)号:CN116594074A

主分类号:G01V8/10

分类号:G01V8/10;G06F17/10

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.09.01#实质审查的生效;2023.08.15#公开

摘要:本发明提出一种针对异形中介面的非视域成像方法及装置,属于光学非视域成像技术领域。其中所述方法包括:根据非视域目标用于非视域成像的探测信号,建立基于虚拟共焦补偿的信号与非视域目标联合先验优化模型,该模型考虑与探测信号关联的在预设的虚拟平面处的共焦信号,该虚拟平面为经过在非视域目标深度方向上距非视域目标的重构区域最近的激光照射点且垂直于该深度方向的平面;求解该优化模型,得到非视域目标的方向反射率的优化结果,进而计算非视域目标的反射率及法向,以实现对非视域目标的成像。本发明可针对任意中介面,尤其对于异形介面具有成像质量高、对噪音鲁棒性强、能同时重构反射率及法向信息、可并行计算的优势。

主权项:1.一种针对异形中介面的非视域成像方法,其特征在于,包括:通过向中介面发射激光,获取非视域目标用于非视域成像的探测信号;根据所述探测信号,建立基于虚拟共焦补偿的信号与非视域目标联合先验优化模型,所述模型考虑与所述探测信号关联的虚拟共焦信号,所述虚拟共焦信号为在预设的虚拟平面处的共焦信号,所述虚拟平面为经过在所述非视域目标深度方向上距所述非视域目标的重构区域最近的激光照射点且垂直于所述深度方向的平面;所述优化模型的优化变量包括所述非视域目标的方向反射率,所述方向反射率表示所述非视域目标反射率的标量场与单位外法向的向量场的乘积;求解所述优化模型,得到所述方向反射率的优化结果;根据所述方向反射率的优化结果,计算所述非视域目标的反射率及法向,以实现对所述非视域目标的成像。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 清华大学 一种针对异形中介面的非视域成像方法及装置

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