申请/专利权人：藤仓烽火光电材料科技有限公司

申请日：2021-12-14

公开（公告）日：2023-09-22

公开（公告）号：CN114031287B

主分类号：C03B37/014

分类号：C03B37/014

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.09.22#授权;2022.03.01#实质审查的生效;2022.02.11#公开

摘要：本发明涉及光纤预制棒制造技术领域，公开了一种高沉积率的OVD反应装置以及OVD反应方法，包括：至少一个喷灯，喷灯的喷口朝向光纤预制棒且喷射反应火焰；反应容器，罩设在光纤预制棒外；给气装置，其包括设置在光纤预制棒侧面的至少一个给气通道；所述给气通道的轴线朝向所述出口方向倾斜，并且给气通道喷出的气流落在光纤预制棒不与反应火焰接触的表面。本发明具有以下优点和效果：本申请由于利用降温导流气体喷射反应火焰无法涉及的位置，降低沉积体的表面温度，拉大了沉积体表面和反应火焰的温度差，有效的提高了沉积效率。另外本申请中面向排气口侧吹空气，不会扰乱反应容器内气体的气流，因此沉积效果不会恶化。

主权项：1.一种高沉积率的OVD反应装置，其特征在于，包括：至少一个喷灯1，其设置于光纤预制棒3的径向底部，喷灯1的喷口朝向光纤预制棒3且喷射反应火焰；反应容器8，罩设在光纤预制棒3外，其包括在竖直方向相对设置的进口81和出口82，所述喷灯1部分伸入进口81内；给气装置，其包括设置在光纤预制棒3侧面的至少一个给气通道2，给气通道2与反应容器8连通，且每一个喷灯1对应一个给气通道2；所述给气通道2的轴线朝向所述出口82方向倾斜，并且给气通道2喷出的降温气流落在光纤预制棒3不与反应火焰接触的表面；所述给气通道2为多边形筒状结构；其中部分侧壁为固定设置的固定板21；其余侧壁为可相对于固定板21移动的活动板22；固定板21和活动板22围设区域的截面积为给气通道2的出风面积，且出风面积随活动板22的移动增大或减小；还包括用于控制活动板移动的控制器4；当光纤预制棒3外径增大时，活动板22相对固定板21远离，给气通道2的出风面积增大；还包括：用于测量光纤预制棒3外径的外径测量仪5，其安装于反应容器8侧壁，且正对光纤预制棒3，所述外径测量仪5还与控制器4相连接；所述给气装置还包括用于控制给气通道2气体流量的流量调节器6，其安装于给气通道2内；所述流量调节器6还与控制器4连接；还包括：用于测量光纤预制棒3表面温度的红外测温仪7，其设置于反应容器8内壁，且正对光纤预制棒3；所述红外测温仪7还与控制器4连接；当红外测温仪7测得光纤预制棒3表面温度升高时，流量调节器6增大给气通道2的气体流量；所述给气通道2喷出的气流方向与所述光纤预制棒3的转动方向相对。

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权利要求：

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