申请/专利权人：武汉烽火锐拓科技有限公司

申请日：2023-09-22

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN220788406U

主分类号：C03B37/018

分类号：C03B37/018

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权

摘要：本申请涉及一种利用电荷诱导的OVD沉积系统，其包括芯棒夹持座、电荷发生器和沉积喷灯，两个所述芯棒夹持座间隔设置以形成用于收容芯棒的收容区域，两个所述芯棒夹持座用于分别夹持于芯棒的两端；所述电荷发生器的电荷输出口朝向所述收容区域，并用于使产生的带正电荷的二氧化硅沉积于芯棒的表面；所述沉积喷灯的沉积方向朝向所述收容区域，并用于使产生的带负电荷的二氧化硅沉积于芯棒的表面。本申请可以有效改善原料利用率。

主权项：1.一种利用电荷诱导的OVD沉积系统，其特征在于，其包括：芯棒夹持座1，两个所述芯棒夹持座1间隔设置以形成用于收容芯棒2的收容区域，两个所述芯棒夹持座1用于分别夹持于芯棒2的两端；电荷发生器3，所述电荷发生器3的电荷输出口朝向所述收容区域，并用于使产生的带正电荷的二氧化硅沉积于芯棒2的表面；沉积喷灯4，所述沉积喷灯4的沉积方向朝向所述收容区域，并用于使产生的带负电荷的二氧化硅沉积于芯棒2的表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉烽火锐拓科技有限公司 一种利用电荷诱导的OVD沉积系统

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