申请/专利权人：武汉茵诺维芯光电技术有限公司

申请日：2023-11-15

公开（公告）日：2024-01-09

公开（公告）号：CN117369042A

主分类号：G02B6/02

分类号：G02B6/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.01.26#实质审查的生效;2024.01.09#公开

摘要：本申请涉及光纤通讯、光纤激光器及光纤传感技术领域，公开了一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，包括以下步骤：步骤一、根据目标光栅的参数，选择适用的光纤类型，通过算法确定所需的参考光栅的参数；步骤二、在整轮光纤最左端通过透射方法刻写参考光栅经过高温退火，连接参考光栅的左端到三端口环形器的单端口；步骤三、将三端口环形器的另外两个端口分别连接宽带光源和光谱分析仪；步骤四、打开宽带光源并测量参考光栅的反射谱，通过算法计算目标光栅所需的功率值，确定目标光栅所需的光斑整形的振幅模板；步骤五、选择相应的相位模板，根据目标光栅的参数确定线性扫描平移台的参数。通过透射方法在整轮光纤的最左端刻写参考光栅的方法，简化了制备过程，降低了成本和复杂性。

主权项：1.一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、根据目标光栅的参数，选择适用的光纤类型，通过算法确定所需的参考光栅的参数；步骤二、在整轮光纤最左端通过透射方法刻写参考光栅，连接参考光栅的左端到三端口环形器的单端口；步骤三、将三端口环形器的另外两个端口分别连接宽带光源和光谱分析仪；步骤四、打开宽带光源并测量参考光栅的反射谱，通过算法计算目标光栅所需的功率值，确定目标光栅所需的光斑整形的振幅模板；步骤五、选择相应的相位模板，根据目标光栅的参数确定线性扫描平移台的参数，打开激光器并控制线性扫描平移台按设定的参数进行刻写；步骤六、监测光谱分析仪上目标光栅的反射谱功率值；步骤七、重复步骤五与步骤六，直到目标光栅功率值达到预设的功率值，关闭激光器，完成目标光栅的刻写。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉茵诺维芯光电技术有限公司 一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法

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