申请/专利权人：东京应化工业株式会社

申请日：2019-06-24

公开（公告）日：2024-02-09

公开（公告）号：CN110647010B

主分类号：G03F7/039

分类号：G03F7/039;G03F7/09;G03F1/56;C07D213/79

优先权：["20180627 JP 2018-122522"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.09#授权;2021.05.07#实质审查的生效;2020.01.03#公开

摘要：本发明提供容易形成截面形状为矩形的抗蚀剂图案的化学放大型正型感光性树脂组合物、具备由该化学放大型正型感光性树脂组合物构成的感光性树脂层的感光性干膜、该感光性干膜的制造方法、使用所述树脂组合物的图案化的抗蚀剂膜的制造方法、使用所述树脂组合物的带铸模的基板的制造方法、使用该带铸模的基板的镀敷造形物的制造方法、和新型的含氮芳香族杂环化合物。本发明的解决方案在于使化学放大型正型感光性树脂组合物中含有具有特定结构且LogS值为‑6.00以下的含氮芳香族杂环化合物即含氮芳香族杂环化合物C，所述化学放大型正型感光性树脂组合物包含通过活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂A、和对碱的溶解性因酸的作用而增大的树脂B。

主权项：1.一种化学放大型正型感光性树脂组合物，其特征在于，含有：产酸剂A，通过活性光线或放射线的照射而产生酸；树脂B，对碱的溶解性因酸的作用而增大；和含氮芳香族杂环化合物C，所述含氮芳香族杂环化合物C是下述式c1所示的化合物：Y1-A1k-R1c1，式c1中，Y1是下述式c-a-1所示的基团，【化1】 A1是单键、或从-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-NHCONH-、-S-、-SO-及-SO2-中选择的2价基团，R1为氢原子或k价有机基团，k为1或2，在k为2的情况下，2个Y1-A1-可以相同也可以不同，在R1为氢原子的情况下，k为1，在式c-a-1中，Sub为取代基，Ac1为吡啶环，2个Sub可以相同也可以不同，所述含氮芳香族杂环化合物C的溶解度S的常用对数值LogS为-6.00以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京应化工业株式会社 树脂组合物、干膜及干膜制造方法、抗蚀剂膜、基板以及镀敷造形物的制造方法

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