申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-04-28

公开（公告）日：2024-02-20

公开（公告）号：CN117581121A

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18

优先权：["20210527 EP 21176240.6"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.02.20#公开

摘要：公开了用于确定投影系统的像差图的相位步进测量系统的衍射光栅。光栅是二维衍射光栅，用作EUV光刻设备中的晶片级光栅。特别地，衍射光栅包括衬底并且是自支撑的，该衬底设置有圆形贯通孔径51的二维阵列。在一些实施例中，可以选择圆形孔径的半径与相邻孔径的中心之间的距离之比，以最小化波前重建算法的增益误差和串扰误差。例如，比率可以在0.34与0.38之间。在一些实施例中，圆形孔径被分布成使得相邻孔径的中心之间的距离是不均匀的并且跨衍射光栅变化。例如，光栅的局部节距可以跨衍射光栅随机变化。

主权项：1.一种用于相位步进测量系统的衍射光栅，所述相位步进测量系统用于确定投影系统的像差图，所述衍射光栅包括设置有圆形贯通孔径的二维阵列的衬底，其中所述圆形孔径的半径与相邻孔径的中心之间的距离的比率在0.34和0.38之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 用于EUV曝光设备中的测量的衍射光栅

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