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【实用新型】一种预防寄生效应的版图隔离结构_杭州傲芯科技有限公司_202321906892.2 

申请/专利权人:杭州傲芯科技有限公司

申请日:2023-07-19

公开(公告)日:2024-02-23

公开(公告)号:CN220526923U

主分类号:H01L29/06

分类号:H01L29/06;H01L27/02;H01L27/092

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.02.23#授权

摘要:本实用新型提供的一种预防寄生效应的版图隔离结构,包括P型衬底、设于P型衬底中上部的有源区;有源区包括从左到右依次设置的P型阱区、N型阱区和P型阱区,N型阱区设于P型衬底的中部,且N型阱区的上表面设有掺杂的N+区,P型阱区设于N型阱区的两侧,且P型阱区的上表面设有掺杂的P+区;掺杂的P+区和掺杂的N+区的顶部包括至少一个连接孔,每个连接孔相互连接,且掺杂的P+区和掺杂的N+区经连接孔相互连接。P型阱区的电极由掺杂的P+区引出,N型阱区的电位由掺杂的N+区引出,通过将有源区中三个阱区的电极短接,以抑制闩锁效应以及隔离和屏蔽器件或模块之间的噪声及游离电子,从而提高电路的可靠性。

主权项:1.一种预防寄生效应的版图隔离结构,其特征在于,包括:P型衬底和设于P型衬底中上部的有源区;所述有源区包括从左到右依次设置的P型阱区、N型阱区和P型阱区,所述N型阱区设于P型衬底的中部,且N型阱区的上表面设有掺杂的N+区,所述P型阱区设于N型阱区的两侧,且P型阱区的上表面设有掺杂的P+区,所述掺杂的N+区和所述掺杂的P+区相互连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 杭州傲芯科技有限公司 一种预防寄生效应的版图隔离结构

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