申请/专利权人：武汉正源高理光学有限公司

申请日：2023-11-22

公开（公告）日：2024-02-27

公开（公告）号：CN117608015A

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18;G01B11/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.15#实质审查的生效;2024.02.27#公开

摘要：本发明公开了一种反射式标尺光栅制作方法及其反射式标尺光栅，属于光栅尺技术领域，制作方法包括：S1、第一次镀膜：在玻璃基材表面依次镀制CR膜层、CRO膜层，完成后清洗；S2、第二次镀膜：在玻璃基材第一次镀膜的面上依次镀制保护膜层、CR膜层，保护膜层采用透明保护膜，完成后清洗；S3、蚀刻图形：对步骤S2中的CR膜层进行激光蚀刻，得到中间产品；S4、切割产品：将中间产品切割成标尺光栅。反射式标尺光栅包括玻璃基材，玻璃基材的表面设有低反射区域和高反射区域，低反射区域包括依次镀制的CR膜层、CRO膜层以及保护膜层，高反射区域包括依次镀制的CR膜层、CRO膜层、保护膜层以及CR膜层。实现了玻璃产品同一面同时具有高低反光栅区域。

主权项：1.一种反射式标尺光栅制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、第一次镀膜：在玻璃基材表面依次镀制CR膜层、CRO膜层，镀膜完成后进行清洗；S2、第二次镀膜：在玻璃基材第一次镀膜的面上依次镀制保护膜层、CR膜层，所述保护膜层采用透明保护膜，镀膜完成后进行清洗；S3、蚀刻图形：按预设光栅图形，对步骤S2中的CR膜层进行激光蚀刻，得到中间产品；S4、切割产品：将中间产品切割成标尺光栅。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉正源高理光学有限公司 一种反射式标尺光栅制作方法及其反射式标尺光栅

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