申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2019-06-06

公开（公告）日：2024-03-08

公开（公告）号：CN110568725B

主分类号：G03F7/16

分类号：G03F7/16;H01L21/67

优先权：["20180606 JP 2018-108883"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.08#授权;2021.03.26#实质审查的生效;2019.12.13#公开

摘要：本发明在对用于沿圆形的基片的周缘部供给涂敷液来形成环状的涂敷膜的装置进行设定时，能够减轻操作者的负担。本发明构成一种装置，其包括：对基片进行送入送出的送入送出部；周缘涂敷单元，其基于用于控制由涂敷膜覆盖的状态的处理参数，沿该基片的周缘部供给上述涂敷液来形成环状的上述涂敷膜；对形成有上述环状的涂敷膜的基片进行拍摄的拍摄单元；输送基片的输送机构；控制部，其输出控制信号来进行如下步骤：基于各个值不同的上述处理参数，在形成上述环状的涂敷膜后由上述拍摄单元对多个上述基片进行拍摄，并且，基于上述各基片的拍摄结果决定用于在该步骤后由上述涂敷单元在上述基片形成上述环状的涂敷膜的处理参数的值。

主权项：1.一种涂敷膜形成装置，其特征在于，包括：送入送出部，其送入送出通过供给涂敷液而形成涂敷膜的圆形的基片；周缘涂敷单元，其基于用于控制所述基片的周缘部被所述涂敷膜覆盖的状态的处理参数，沿该基片的周缘部供给所述涂敷液来形成环状的所述涂敷膜；拍摄单元，其对形成有所述环状的涂敷膜的基片进行拍摄；在所述送入送出部、所述涂敷单元与所述拍摄单元之间输送所述基片的输送机构；和控制部，其输出控制信号来进行第一步骤，在所述第一步骤中，为了调整装置的动作，基于各个值不同的所述处理参数，在要形成所述涂敷膜的多个调整用的所述基片上形成了所述环状的涂敷膜后，由所述拍摄单元对所述调整用的基片进行拍摄，并且，所述控制部基于所述各基片的拍摄结果，来决定用于在调整所述装置的动作后由所述涂敷单元在所述基片形成所述环状的涂敷膜的所述处理参数的值，所述控制部，在所述拍摄结果中从由所述涂敷膜覆盖基片的状态为正常的基片的处理中使用的处理参数的值中，去掉最接近由所述涂敷膜覆盖基片的状态为异常的基片的处理中使用的处理参数的值之值，来决定该处理参数的值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 涂敷膜形成装置和涂敷膜形成装置的调整方法

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