申请/专利权人：江苏筑磊电子科技有限公司

申请日：2022-09-26

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN115491658B

主分类号：C23C16/44

分类号：C23C16/44;C23C16/509;C23C16/52

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.12#授权;2023.01.03#实质审查的生效;2022.12.20#公开

摘要：一种使用等离子中解离的F2进行CVD室清洁的方法，所述方法包括如下步骤：S1、更换F2钢瓶，安装从气瓶到CVD室的F2‑气体混合物的输送管线；S2、在新安装的气体输送系统中缓慢流动F2‑气体混合物，实现持久钝化；S3、将气体柜、气体输送系统和F2钢瓶放置在带有安全排气装置的封闭柜内，并将气体柜与13.56‑MHzPECVD反应器连接起来；S4、使用干泵系统将PECVD室抽空至40mTorr，基座和室壁保持恒温；S5、平行板反应器、喷头和基座之间的距离控制在12.5～19mm，固定射频功率和工作压力；S6、控制气体流速为1250～1650sccm，清洗CVD腔室。

主权项：1.一种使用等离子中解离的F2进行CVD室清洁的方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：S1、更换F2钢瓶，安装从气瓶到CVD室的F2-气体混合物的输送管线；其中所述步骤S1中包括：①更换钢瓶时，使用干燥的N2气流吹扫管路；②F2-气体混合物至少含有F220～25份，Ar65～70份，N25～15份；③输送管线材质为不锈钢；S2、在新安装的气体输送系统中缓慢流动F2-气体混合物，实现持久钝化，在气体管线的不锈钢表面内形成金属氟化物；S3、将气体柜、气体输送系统和F2钢瓶放置在带有安全排气装置的封闭柜内，并将气体柜与13.56-MHzPECVD反应器连接起来；其中，将安装在气柜安全排气口的F2传感器连接到F2气瓶的安全阀，并在检测到F2时自动切断气流；使用气体质量流量控制器，控制F2-气体混合物的流量；S4、使用干泵系统将PECVD室抽空至40mTorr，基座和室壁保持恒温；其中，基座温度设置为400℃；通过连续水冷将室壁温度恒定在55℃；S5、平行板反应器、喷头和基座之间的距离控制在12.5～19mm，固定射频功率和工作压力；其中，射频功率为650～800w；射频工作压力为2.0～2.3Torr；S6、控制气体流速为1250～1650sccm，清洗CVD腔室。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏筑磊电子科技有限公司 一种使用等离子中解离的F₂进行CVD室清洁的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD