申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2023-09-15

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN117706889A

主分类号：G03G15/08

分类号：G03G15/08;G03G21/18

优先权：["20220915 JP 2022-146783"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.15#公开

摘要：本发明涉及显影装置、清洁方法、处理盒和电子照相图像形成设备。显影装置包括使表面层的外表面附近硬化的显影辊、调色剂供给辊和调色剂，其中显影辊在外表面上具有包含有机硅化合物并且具有基本上半球形形状的细颗粒，细颗粒的粒径在特定范围内，并且调色剂包括作为外部添加剂的二氧化硅颗粒，并且二氧化硅颗粒的固着率为50％以上。

主权项：1.一种显影装置，其特征在于，其包括：显影辊；调色剂；和调色剂供给辊，其将所述调色剂供给至所述显影辊，所述显影辊包括：导电性基体，和在所述导电性基体上的由单层构成的表面层，所述表面层具有包含交联聚氨酯树脂作为粘结剂的基质，当将所述表面层的在厚度方向上的截面中第一区域中的所述基质的弹性模量定义为E1，所述第一区域为从所述表面层的外表面至距所述外表面的深度为0.1μm的位置，并且将所述截面中第二区域中的所述基质的弹性模量定义为E2，所述第二区域为从距所述外表面的深度为1.0μm的位置至距所述外表面的深度为1.1μm的位置时，E1和E2满足以下关系式1和2：E1≥200MPa…110MPa≤E2≤100MPa…2其中细颗粒附着至所述表面层的外表面，并且所述细颗粒在所述表面层的外表面上形成凸部；所述细颗粒各自包含有机硅化合物，并且在各所述细颗粒和所述表面层的外表面的截面图中，所述细颗粒各自具有与所述表面层的外表面面接触的基本平坦表面和构成各所述凸部的至少一部分的弯曲表面；所述细颗粒的基本平坦表面的最长直径w的个数平均值为10nm至400nm；所述调色剂包含调色剂颗粒和作为外部添加剂的二氧化硅颗粒；所述调色剂颗粒包含粘结剂树脂；和通过水洗法测量的所述二氧化硅颗粒对所述调色剂颗粒的固着率为50％以上。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 显影装置、清洁方法、处理盒和电子照相图像形成设备

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