申请/专利权人:无锡创彩光学材料有限公司
申请日:2023-12-12
公开(公告)日:2024-03-15
公开(公告)号:CN117700736A
主分类号:C08G73/10
分类号:C08G73/10;C08K3/36;C08K9/06
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开
摘要:本发明属于高分子膜材料领域。本发明涉及一种无色高透聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括改性纳米二氧化硅的制备、聚酰胺酸溶胶的制备以及流延成膜、亚胺化处理等工艺,有效解决现有技术中聚酰亚胺薄膜在颜色较深的问题,同时该薄膜还具有高透光性、耐热性、拉伸强度优异等性能优势。
主权项:1.一种无色高透聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1将纳米二氧化硅置于装有乙酸乙酯A的四口烧瓶中,超声分散1h后,加入硅烷偶联剂KH550、去离子水,缓慢升温至60-80℃,加热搅拌6-14h;反应结束后,冷却至室温,过滤,用乙酸乙酯B洗涤,80℃下真空干燥至恒重,得到硅烷改性二氧化硅;所述纳米二氧化硅、硅烷偶联剂KH550、去离子水的用量比为4.5g:3.5g:0.3g;2将芳族二胺、脂环族二酐加入到N,N-二甲基乙酰胺A中;脂环族二胺、芳族二酐加入到N,N-二甲基乙酰胺B中,于20-35℃反应10-16h后;合并N,N-二甲基乙酰胺A、N,N-二甲基乙酰胺B溶液,加入硅烷改性二氧化硅,超声处理2h后,于35℃反应3-5h,制得聚酰胺酸溶液;所述芳族二胺、脂环族二酐的用量比为1mol:1.1-1.3mol;所述脂环族二胺、芳族二酐的用量比为1mol:1.1-1.3mol;所述芳族二胺、脂环族二胺的用量比为0.3-0.6mol:0.4-0.7mol;所述硅烷改性二氧化硅与二胺的用量比为3.0-5.0g:8g;所述聚酰胺酸溶液的固含为5-20%;3将脱水剂、催化剂加入到聚酰胺酸溶液中分散均匀后,流延成膜,湿膜在真空条件下,升温至40-50℃,停留1-2h,100-120℃停留1-2h,200-250℃停留0.5-2h,320-350℃停留0.5-1h,经双向拉伸,即得聚酰亚胺薄膜;所述脱水剂的用量为聚酰胺酸溶液的5wt%;所述催化剂的用量为聚酰胺酸溶液的0.5wt%。
全文数据:
权利要求:
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