申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2019-05-23

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117724300A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F1/36;G06F30/392;G06F30/398;G06N3/0464;G06N3/08;G06N20/00;G06F119/18

优先权：["20180615 US 62/685,749"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本文描述了一种用于校准过程模型和训练图案化过程的逆过程模型的方法。训练方法包括：根据对基于晶片目标布局预测图案形成装置图案的逆光刻过程的模拟，获得第一图案形成装置图案；接收与使用第一图案形成装置图案曝光的晶片相对应的晶片数据；以及训练逆过程模型，该逆过程模型被配置成使用与曝光后的晶片相关的晶片数据和第一图案形成装置图案来预测第二图案形成装置图案。

主权项：1.一种用于训练图案化过程的逆过程模型的方法，所述方法包括：根据对基于晶片目标布局预测图案形成装置图案的逆光刻过程的模拟，获得第一图案形成装置图案；经由处理器接收与使用所述第一图案形成装置图案曝光的晶片相对应的晶片数据；以及经由所述处理器训练逆过程模型，所述逆过程模型被配置成使用与所述曝光后的晶片相关的晶片数据和第一图案形成装置图案来预测第二图案形成装置图案。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 基于机器学习的逆光学邻近效应校正和过程模型校准

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