申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日：2023-09-13

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117724294A

主分类号：G03F7/11

分类号：G03F7/11;G03F7/004

优先权：["20220916 US 17/946428"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：一种形成图案的方法，该方法包括：在衬底上提供光致抗蚀剂底层；在该光致抗蚀剂底层上形成光致抗蚀剂层；将该光致抗蚀剂层图案化；以及将图案从该图案化的光致抗蚀剂层转移到该光致抗蚀剂底层；其中该光致抗蚀剂底层由组合物形成，该组合物包含溶剂和由式1表示的化合物式1，或聚合物，该聚合物具有由式2表示的重复单元式2；其中在式1和2中：Ar1和Ar2独立地表示芳香族基团；并且Y1、Y2、X1、X2、X3、T1、T2、Z1、和Z2是如所定义的。

主权项：1.一种形成图案的方法，所述方法包括：在衬底上提供光致抗蚀剂底层；在所述光致抗蚀剂底层上形成光致抗蚀剂层；将所述光致抗蚀剂层图案化；以及将图案从所述图案化的光致抗蚀剂层转移到所述光致抗蚀剂底层；其中所述光致抗蚀剂底层由组合物形成，所述组合物包含溶剂和由式1表示的化合物 或聚合物，所述聚合物具有由式2表示的重复单元， 其中在式1和2中：Ar1和Ar2独立地表示芳香族基团，每个Y1和每个Y2独立地是-OH、-SH、-COOH、-NH2、-RA、-ORA、-COORA、-SRA、或-NHRA，并且y1和y2独立地是从0至6的整数；其中RA独立地是取代或未取代的C1-C18烷基、取代或未取代的C3-C12环烷基、取代或未取代的C3-C12杂环烷基、取代或未取代的C2-18烯基、取代或未取代的C3-8炔基、取代或未取代的C6-C14芳基、或取代或未取代的C6-C14杂芳基；X1和X2独立地是单键或二价连接基；X3是二价连接基；Z1和Z2独立地是-ORA、-COORA、-SRA、-NHRA、-OCOCRB＝CH2、取代或未取代的C1-18烷基、取代或未取代的C1-18烷氧基、取代或未取代的C3-12环烷基、取代或未取代的C3-12杂环烷基、取代或未取代的C3-12缩水甘油基、取代或未取代的C2-18烯基、取代或未取代的C5-12环烯基、取代或未取代的C3-18炔基、取代或未取代的C6-14芳基、或取代或未取代的C3-44杂芳基，其中RB是氢、氟、或取代或未取代的C1-5烷基；T1和T2独立地是二价连接基；z1和z2独立地是从0至6的整数，并且对于所述具有式1的化合物，z1+y1至少是1并且z2+y2至少是1；并且t1和t2独立地是从0至6的整数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光致抗蚀剂底层组合物

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