申请/专利权人：浙江六方半导体科技有限公司

申请日：2023-12-15

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117718199A

主分类号：B05C19/00

分类号：B05C19/00;B05C19/06;B05B13/02;B05D7/24;B05D1/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明公开了一种多次化学气相沉积制备碳化硅涂层的方法，属于制备碳化硅涂层领域，一种多次化学气相沉积制备碳化硅涂层的方法，可以实现电机输出端会带动转动杆进行转动，而转动杆进行转动时，会带动扇叶进行同步转动，产生向上的气流，并将受重力作用沉积在制备炉底部的碳化硅粉末重新卷起向上吹动，该动作不仅解决了碳化硅粉末在重力作用下的发生沉积，造成原料利用率低和浪费的问题，还更大程度上提升了制备炉内碳化硅粉末的浓度，提高碳化硅粉末与基材之间生成涂层的效率，硅烷偶联剂稀释液在与碳化硅和基材接触后，可以一定程度上增加碳化硅粉末与基材之间的粘着性，提升碳化硅涂层的生成效率。

主权项：1.一种多次化学气相沉积制备碳化硅涂层的方法，包括制备炉1，所述制备炉1的外侧安装有支撑架6，所述制备炉1顶部设置有炉盖2，且炉盖2上设置有进气管3，所述制备炉1两端外壁上分别贯通连接有循环管4和出气管5，所述进气管3与外接进气设备出气口相连通，所述循环管4和出气管5，分别与外接气体循环设备相连通，其特征在于：所述制备炉1内设置有保护筒7，所述保护筒7内壁的中部固定连接有电热环8，且电热环8与外接控制器相连接，所述电热环8内设置有与基材相适配的磁环套12，所述保护筒7的下方设置有支撑环9，所述支撑环9与制备炉1的内壁固定连接，所述支撑环9的内壁固定连接有多个连接块18，且多个连接块18的相近端共同固定安装有磁性座17，所述磁性座17与磁环套12相适配，所述磁性座17顶部设置有相互适配的保护盖16，且多个保护盖16均倾斜设置，所述制备炉1的底部贯穿连接有转动杆19，且转动杆19的顶端贯穿连接磁性座17，所述制备炉1的底部安装有电机，且电机输出端与转动杆19底端固定连接，所述转动杆19靠近制备炉1内壁底面的一端套接固定有用于卷动气流上升的扇叶21，所述转动杆19的顶端内开设有储液腔14，所述转动杆19的顶端安装有储液盒15，且储液盒15内填充有硅烷偶联剂稀释液，所述储液盒15的出水口贯穿连接在储液腔14内，所述储液腔14的两端均贯通连接有连接管26，所述连接管26远离储液腔14的一端均滑动连接有出液管28，所述出液管28与连接管26内壁之间共同固定连接有第二弹簧27，所述出液管28上设置有多个用于喷射雾化硅烷偶联剂稀释液的雾化喷头29。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江六方半导体科技有限公司 一种多次化学气相沉积制备碳化硅涂层的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD