申请/专利权人：首尔伟傲世有限公司

申请日：2019-10-25

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117720165A

主分类号：C02F1/32

分类号：C02F1/32;A61L9/20

优先权：["20181029 KR 10-2018-0129936","20190116 KR 10-2019-0005797"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明涉及一种流体处理模组，流体处理模组包括：排管，提供流体移动的通道，并具有流入口和排出口；光源模组，包括基板和至少一个发光元件，所述发光元件设置在所述基板的前面上，并将处理所述流体的光向所述排管内照射；反射器，设置在所述排管内，对于所述光具有比所述排管高的反射率，并反射来自所述光源模组的所述光；以及散热板，与所述基板的背面接触，以散发所述光源模组的热。所述流入口和所述排出口中至少一个设置为多个，以控制向所述排管内移动的所述流体的移动速度以及移动方向，所述散热板具有比所述基板的热传导率大的热传导率。

主权项：1.一种流体处理模组，包括：排管，流体在内部移动；光源模组，包括基板及安装在所述基板上的发光元件；流入口及排出口，连接于所述排管，所述流入口供流体流入，所述排出口与所述流入口相隔并供经处理的流体排出；窗，使光透射至所述排管的至少一部分区域；以及散热板，用于将在所述光源模组的外侧面产生的热量排出至外部，其中，所述散热板与所述排管的背面直接接触，并且所述散热板具有比所述基板更大的面积。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 首尔伟傲世有限公司 流体处理模组

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