申请/专利权人:中国船舶集团有限公司第七二三研究所
申请日:2023-12-04
公开(公告)日:2024-03-19
公开(公告)号:CN117727802A
主分类号:H01L29/868
分类号:H01L29/868;H01L29/06
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开
摘要:本发明涉及一种硅基抗大功率微波烧毁效应的PIN二极管,包括阴极、重掺杂N+层、低掺杂N‑层、低掺杂P‑层、重掺杂P+层、阳极;其中,所述低掺杂P‑层位于本征层低掺杂N‑层周围,所述低掺杂P‑层位于与重掺杂N+层和重掺杂P+层之间。本发明提出的硅基抗大功率微波烧毁PIN晶体管优化了PIN晶体管在大功率微波作用下晶体管内的热分布并且降低了PIN晶体管在大功率微波作用下工作时的内部温度上升速率,改善了PIN晶体管抗大功率微波损伤能力。
主权项:1.一种硅基抗大功率微波烧毁效应的PIN二极管,其特征在于,所述硅基抗大功率微波烧毁效应的PIN二极管从上往下,依次包含阳极101、重掺杂P+层102、低掺杂N-层103、重掺杂N+层104、阴极105;以及和低掺杂N-层103同层的低掺杂P-层106;其中,所述低掺杂P-层106呈环形包裹低掺杂N-层103;所述低掺杂P-层106位于重掺杂N+层104和重掺杂P+层102之间;所述重掺杂P+层102厚度为TP+,重掺杂P+层102为P型掺杂,掺杂浓度NP+范围为1×1019cm-3至1×1020cm-3;所述低掺杂N-层103厚度为TN-,低掺杂N-层103为本征层,浓度NN-范围为1×1014cm-3至1×1016cm-3;所述重掺杂N+层104厚度为TN+,重掺杂N+层104为N型掺杂,掺杂浓度NN+范围为1×1019cm-3至1×1020cm-3;所述阳极101和阴极105为金属电极,均为欧姆接触。
全文数据:
权利要求:
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