申请/专利权人：朗姆研究公司

申请日：2022-07-15

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117730281A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20210726 US 63/203,507"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本文中所述的各种实施方案涉及用于处理含金属光致抗蚀剂以修改光致抗蚀剂的材料属性的方法、装置和系统。含金属光致抗蚀剂可在涉及至少两个热操作的暴露后烘烤工艺中进行处理。暴露后烘烤操作中的至少一者包括，在富含氧的环境中使含金属光致抗蚀剂暴露于适度升高的温度。接着进行的暴露后烘烤操作包括，在惰性气体环境中使含金属光致抗蚀剂暴露于高度升高的温度。该多步骤暴露后烘烤操作改善了在后续干式显影工艺中的蚀刻选择性。

主权项：1.一种处理含金属极紫外线EUV光致抗蚀剂的方法，其包括：在处理室中提供衬底，其中所述衬底是半导体衬底，所述半导体衬底包括衬底层和位于所述衬底层上方的含金属EUV光致抗蚀剂；在所述处理室中，使所述含金属EUV光致抗蚀剂在含氧环境中暴露于第一升高的温度；以及使所述含金属EUV光致抗蚀剂在惰性气体环境中暴露于第二升高的温度，其中所述第二升高的温度大于所述第一升高的温度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 朗姆研究公司 用于改善含金属抗蚀剂的干式显影性能的多步骤暴露后处理

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