申请/专利权人：三星显示有限公司;东国大学校产学协力团

申请日：2023-09-12

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117723556A

主分类号：G01N21/95

分类号：G01N21/95;G01N21/88;G01N21/01

优先权：["20220919 KR 10-2022-0118117"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.19#公开

摘要：提供了缺陷分析装置和缺陷分析方法。该缺陷分析装置可以包括：光源，用光照射元件的分析目标层；位置调整器，调整分析目标层中的待被用光照射的位置；检测器，测量在元件的位于分析目标层的一端的源区与元件的位于分析目标层的另一端的漏区之间流动的电流；以及分析器，基于电流来获取与分析目标层中的缺陷相关的定量数据，其中，在第一模式下，分析目标层的多个区被用光顺序地照射。

主权项：1.一种缺陷分析装置，包括：光源，被配置为用光照射元件的分析目标层；位置调整器，被配置为调整待被用所述光照射的位置；检测器，被配置为测量在所述元件的位于所述分析目标层的一端的源区与所述元件的位于所述分析目标层的另一端的漏区之间流动的电流；以及分析器，被配置为基于所述电流来获取与所述分析目标层中的缺陷相关的定量数据，其中，在第一模式下，所述分析目标层的多个区被用所述光顺序地照射。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三星显示有限公司;东国大学校产学协力团 缺陷分析装置和缺陷分析方法

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