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【发明授权】周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质_华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司_202011062137.1 

申请/专利权人:华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司

申请日:2020-09-30

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN112163341B

主分类号:G06F30/20

分类号:G06F30/20;G06F17/14;G06F111/10

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.19#授权;2021.01.19#实质审查的生效;2021.01.01#公开

摘要:本发明公开了一种周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质,属于光学关键尺寸测量技术领域,所述方法包括:获取周期性光栅结构内材料的介电常数;将周期性光栅结构拆分为若干包含一种材料的区域;基于格林公式将各个区域的面积分转化为各个区域边界的线积分;利用线积分表示各个区域对应的多边形顶点的显式解析表达式;从各个显式解析表达式中获取各个区域对应的介电常数傅里叶系数,基于各个区域对应的介电常数傅里叶系数确定周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数;利用周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数实现周期性光栅结构的光学特性建模。本发明简化获取周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数的过程,提高光学特性建模的效率。

主权项:1.一种周期性光栅结构的光学特性建模方法,其特征在于,包括:S1、获取所述周期性光栅结构内材料的介电常数;将所述周期性光栅结构拆分为若干区域,每个区域只包含一种材料;S2、基于格林公式将各个所述区域的面积分转化为各个所述区域边界的线积分;S3、利用各个所述区域边界的线积分表示各个所述区域对应的多边形顶点的显式解析表达式;S4、从各个所述区域对应的多边形顶点的显式解析表达式中获取各个所述区域对应的介电常数傅里叶系数,基于各个所述区域对应的介电常数傅里叶系数确定所述周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数;S5、利用所述周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数进行严格耦合波分析,以实现所述周期性光栅结构的光学特性建模。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司 周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质

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