申请/专利权人：日东电工株式会社

申请日：2021-07-13

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN116234692B

主分类号：B32B27/00

分类号：B32B27/00

优先权：["20200713 JP 2020-120131"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2023.06.23#实质审查的生效;2023.06.06#公开

摘要：层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。在掠入射X射线衍射法中的面外衍射out‑of‑plane测定中，在归属于层状结构的波数2nm‑1～10nm‑1处具有峰。通过规定试验而测得的防污层的积分强度比为0.0035以下。

主权项：1.一种层叠体，其特征在于，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和防污层，所述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体在掠入射X射线衍射法中的面外衍射out-of-plane测定中，在归属于层状结构的波数2nm-1～10nm-1处具有峰，所述基材的厚度为1μm以上且200μm以下，通过下述试验而测得的所述防污层的积分强度比为0.0020以下，在所述基材与所述防污层之间还具备密合层，所述密合层为包含二氧化硅的层，试验：针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射in-plane测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度面内衍射积分强度；另外，针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面外衍射out-of-plane测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度面外衍射积分强度，根据所得面内衍射积分强度和面外衍射积分强度，计算面内衍射积分强度相对于面外衍射积分强度的积分强度比面内衍射积分强度面外衍射积分强度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日东电工株式会社 层叠体

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