申请/专利权人:佛山市赛普飞特科技有限公司
申请日:2023-07-10
公开(公告)日:2024-03-19
公开(公告)号:CN220614413U
主分类号:B28B11/04
分类号:B28B11/04
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.03.19#授权
摘要:本实用新型公开了一种喷釉通道及喷釉设备。该喷釉通道包括第一支撑结构、第二支撑结构以及至少一个喷釉模组。第一支撑结构限定安装腔体。第二支撑结构活动设置在安装腔体内并通过第一线性引导件滑动连接第一支撑结构。至少一个喷釉模组设置在第二支撑结构靠近输送带的一侧上。安装腔体的一端设有出口,第二支撑结构具有收容位置和伸出位置,位于收容位置的第二支撑结构收容在安装腔体内,以使喷釉模组位于输送带表面的上方;第二支撑结构经出口从收容位置移动至伸出位置;位于伸出位置的第二支撑结构从安装腔体部分或整体伸出,以使至少一个喷釉模组相对于输送带向外伸出而悬空,从而方便对喷釉模组进行维护或维修操作。
主权项:1.一种喷釉通道,与输送带配合,其特征在于,所述喷釉通道包括:第一支撑结构,其限定安装腔体;第二支撑结构,其活动设置在所述安装腔体内并通过第一线性引导件滑动连接所述第一支撑结构;以及至少一个喷釉模组,其设置在所述第二支撑结构靠近所述输送带的一侧上,所述喷釉模组具有釉料流道,所述釉料流道上设有朝向所述输送带的喷釉孔;其中,所述安装腔体的一端设有出口,所述第二支撑结构具有收容位置和伸出位置,位于收容位置的所述第二支撑结构收容在所述安装腔体内,以使所述喷釉模组位于所述输送带表面的上方;所述第二支撑结构经所述出口从所述收容位置移动至所述伸出位置;位于所述伸出位置的第二支撑结构从所述安装腔体部分或整体伸出,以使至少一个所述喷釉模组相对于所述输送带向外伸出而悬空。
全文数据:
权利要求:
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