申请/专利权人：江苏宇航板业有限公司

申请日：2023-08-14

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN220613459U

主分类号：B24B21/04

分类号：B24B21/04;B24B21/18;B24B47/22

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权

摘要：本实用新型涉及砂光设备技术领域，具体说是一种保证硅酸钙基板砂光均匀的设备，包括机体，所述机体的一侧固定安装有机架；所述机架的上端转动连接有托辊；所述机架一侧安装有驱动电机；本实用新型通过导向板和靠山板的设置，使得导向板和靠山板能够较正硅酸钙基板进入机体打磨的方向的方向，提高硅酸钙基板厚度的均匀度，从而提升硅酸钙基板的成型质量，通过设置硅胶材料制成的转轮，使得硅酸钙基板与转轮之间为点接触，减少硅酸钙基板与转轮之间的摩擦力，避免硅酸钙基板受磨损，且硅胶材料制成的转轮质地柔软，避免硅酸钙基板的边角与转轮接触时，硅酸钙基板的边角受碰撞而出现损伤，提高硅酸钙基板的产品质量。

主权项：1.一种保证硅酸钙基板砂光均匀的设备，其特征在于：包括机体1，所述机体1的一侧固定安装有机架11；所述机架11的上端转动连接有托辊12；所述机架11一侧安装有驱动电机13；所述驱动电机13的输出端与托辊12之间通过带传动连接；所述机体1内部转动安装有砂光辊14；所述砂光辊14表面缠绕有砂带15；所述机体1一侧固连有伺服电机16；所述伺服电机16的输出端与砂光辊14固连。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏宇航板业有限公司 一种保证硅酸钙基板砂光均匀的设备

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