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【发明公布】一种多物理场辅助激光抛光装置及抛光方法_湘潭大学_202311664158.4 

申请/专利权人:湘潭大学

申请日:2023-12-06

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117733319A

主分类号:B23K26/00

分类号:B23K26/00;B23K26/352;B23K26/70

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明专利公开了一种多物理场辅助激光抛光装置及抛光方法,其特征在于一方面通过分束器激将激光分为三束激光分别对材料进行预热、加工和退火,另一方面通过添加超声振动物理场、磁场、电场从而达到促进熔池表面流动,优化表面平滑效果的目的。该装置与现有的激光抛光装置及抛光方法相比,具有稳定可靠,加工效果更加的优势,适用于激光抛光各类金属材料与非金属材料。

主权项:1.一种多物理场辅助激光抛光的装置及抛光方法,其特征在于通过添加磁场、超声振动、电场,使材料在“融峰填谷”的过程中,促进熔融态材料从峰顶流入峰谷,使表面材料分布更加均匀,在一定程度上抑制裂纹产生的同时,进一步优化熔融态材料的平滑效果。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 湘潭大学 一种多物理场辅助激光抛光装置及抛光方法

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