申请/专利权人：株式会社斯库林集团

申请日：2023-09-18

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117747490A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/02;B08B3/10;B08B3/04

优先权：["20220922 JP 2022-150779","20230623 JP 2023-103476"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置100具备处理槽110、基板保持部120、气泡供给部135和多个处理液供给部An。基板保持部120将基板W浸渍在贮存于处理槽110的处理液LQ中。气泡供给部135从基板W的下方对处理液LQ供给多个气泡BB。处理槽110包括第一侧壁116和第二侧壁117。多个处理液供给部An包括至少1个第一处理液供给部An和至少1个第二处理液供给部An。至少1个第一处理液供给部An配置在第一侧壁116侧，向气泡BB供给处理液LQ。至少1个第二处理液供给部An配置在第二侧壁117侧，向气泡BB供给处理液LQ。

主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：处理槽，其贮存处理液；基板保持部，其保持基板，并将所述基板浸渍在贮存于所述处理槽的所述处理液中；气泡供给部，其配置在所述处理槽，从所述基板的下方对所述处理液供给多个气泡；以及多个处理液供给部，其配置在所述处理槽，向所述处理槽内部供给所述处理液，所述处理槽包括彼此对置的第一侧壁及第二侧壁，所述多个处理液供给部包括：至少1个第一处理液供给部，其配置在所述第一侧壁侧，向所述气泡供给所述处理液；以及至少1个第二处理液供给部，其配置在所述第二侧壁侧，向所述气泡供给所述处理液。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理装置及基板处理方法

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