申请/专利权人：浙江众益电源有限公司

申请日：2023-11-06

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117736809A

主分类号：C11D1/83

分类号：C11D1/83;H01L21/02;C11D3/04;C11D3/10;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/37;C11D3/39;C11D3/60

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及半导体材料清洗剂技术领域，特别涉及一种半导体用清洗剂、制备方法及清洗方法，在现有的氢氧化钾、烷基苯磺酸盐及聚氧乙烯烷基醚组成的清洗剂的基础上，加入B组分，利用B组分中的分解剂的成分，在清洗剂完成对硅片表面清洗后，分解烷基苯磺酸盐，破坏在硅片表面形成的保护膜的稳定结构，使得烷基苯磺酸盐、聚氧乙烯烷基醚及解离酸，被氢氧化钾快速的分解，减少烷基苯磺酸盐、聚氧乙烯烷基醚及解离酸在硅片表面的残留，形成清洗与保护硅片及去除硅片表面残留清洗剂保护膜的动态平衡。

主权项：1.一种半导体用清洗剂，其特征在于，包括A组分与B组分；A组分由以下重量份的原料组成：50-60份的无机碱、10-15份的表面活性剂I、10-15份的表面活性剂II、10-20份的有机溶剂、2-5份的络合剂、2-5份的缓冲剂、2-5份的抗泡剂及150-200份的水；B组分由以下重量份的原料组成：50-60份的分解剂及30-40份的PH调节剂；其中，A组分中的所述无机碱为氢氧化钾，所述表面活性剂I为烷基苯磺酸盐，所述表面活性剂II为聚氧乙烯烷基醚，所述有机溶剂为乙醇；B组分中的所述分解剂为双氧水，所述PH调节剂为苹果酸、柠檬酸、醋酸中的一种或多种。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江众益电源有限公司 一种半导体用清洗剂、制备方法及清洗方法

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