申请/专利权人：季华实验室

申请日：2023-12-18

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117747432A

主分类号：H01L21/336

分类号：H01L21/336

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及电子器件制作技术领域，公开了一种高精度电子器件图案的制作方法，其包括步骤：将疏水膜液体材料涂布在基板上并进行硬化处理，形成疏水层干膜；采用激光刻蚀方法在疏水层干膜上刻出器件所需高精度图案的初始沟槽；采用等离子体对初始沟槽进行深度清洁处理，得到精密沟槽；在精密沟槽内用喷墨打印方法注入墨水材料，将墨水材料中的墨水烘干，在基板上生成高精度器件膜层图案；重复上述步骤在基板上完成多层高精度器件膜层图案的制备，制得高精度电子器件图案。本发明提供的高精度电子器件图案的制作方法不受墨水材料注入的喷墨打印工艺精度的限制，只需采用现有高分辨率的激光刻蚀技术便可实现10μm以下高精度电子器件图案的制作。

主权项：1.一种高精度电子器件图案的制作方法，其特征在于，包括步骤：将疏水膜液体材料涂布在基板上，对所述疏水膜液体材料进行硬化处理，在基板上形成疏水层干膜；采用激光刻蚀方法在所述疏水层干膜上刻出器件所需高精度图案的初始沟槽，所述初始沟槽的深度小于所述疏水层干膜的厚度；采用等离子体对所述初始沟槽进行深度清洁处理，得到精密沟槽，所述精密沟槽的深度等于当前疏水层干膜的厚度；在所述精密沟槽内用喷墨打印方法注入墨水材料，将墨水材料中的墨水烘干，然后将剩余的疏水层干膜全面去除，在基板上生成高精度器件膜层图案；重复上述步骤在基板上完成多层高精度器件膜层图案的制备，制得高精度电子器件图案。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 季华实验室 一种高精度电子器件图案的制作方法

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