申请/专利权人：苏州智云谷光电技术有限公司

申请日：2023-12-19

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117742118A

主分类号：G03H1/02

分类号：G03H1/02;G02B3/00;G02B5/18;G02B30/56;G03H1/18

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明公开了一种体全息光学元件的制备方法、体全息光学元件及显示模组，该方法包括：对激光光源发出的经过滤波扩束、透镜准直后形成的平面波进行分束得到第一光束和第二光束；第二平行光束经过第二微透镜阵列后在第一会聚点会聚再发散，第一会聚点在第一微透镜阵列和透镜之间，发散光经过透镜后在全息感光板后的第二会聚点会聚，会聚光作为参考光在全息感光板表面形成对应光斑；第一平行光束经过第一微透镜阵列后仍然先会聚再发散，作为物光在全息感光板表面与参考光进行干涉；对全息感光板进行干涉曝光，得到体全息光学元件。本发明能避免图像受环境影响，提升光的透过率和能量利用率，以及体全息元件的设置灵活性。

主权项：1.一种体全息光学元件的制备方法，其特征在于，所述方法应用于曝光光路，所述体全息光学元件为透射式体全息光学元件或反射式体全息光学元件，所述曝光光路包括激光光源、第一微透镜阵列、第二微透镜阵列、透镜和全息感光板，所述方法包括以下步骤：对所述激光光源发出的经过滤波扩束、透镜准直后形成的平面波进行分束得到第一光束和第二光束；所述第二平行光束经过所述第二微透镜阵列后在第一会聚点会聚再发散，所述第一会聚点在所述第一微透镜阵列和所述透镜之间，发散光经过所述透镜后在所述全息感光板后的第二会聚点会聚，会聚光作为参考光在所述全息感光板表面形成对应光斑，所述第二会聚点在所述全息感光板的另一侧；所述第一平行光束经过所述第一微透镜阵列后仍然先会聚再发散，作为物光在所述全息感光板表面与参考光进行干涉；当所述体全息光学元件为透射式体全息光学元件时，所述物光和参考光在所述全息感光板同侧，当所述体全息光学元件为反射式体全息光学元件时，所述物光和参考光在所述全息感光板异侧；对所述全息感光板进行干涉曝光，得到所述体全息光学元件。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州智云谷光电技术有限公司 体全息光学元件的制备方法、体全息光学元件及显示模组

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