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【发明公布】传感器定位方法、定位系统、光刻设备、量测设备和器件制造方法_ASML荷兰有限公司_202280053295.1 

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

申请日:2022-07-12

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117751330A

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20;G03F9/00

优先权:["20210809 EP 21190404.0"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.03.22#公开

摘要:本发明提供了一种将传感器定位在位于能够移动的物体上的目标上方的方法,包括以下步骤:a.移动所述物体以将所述目标移动到期望位置,b.在朝向所述目标的被测得的瞬时位置的方向上移动所述传感器,c.当所述传感器位于所述目标上方时,将所述传感器与所述目标一起移动到所述目标的所述期望位置。

主权项:1.一种用于将传感器定位在位于能够移动的物体上的目标上方的方法,包括以下步骤:a.移动所述物体以将所述目标移动到期望位置,b.在朝向所述目标的被测得的瞬时位置的方向上移动所述传感器,c.当所述传感器位于所述目标上方时,将所述传感器与所述目标一起移动到所述目标的所述期望位置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: ASML荷兰有限公司 传感器定位方法、定位系统、光刻设备、量测设备和器件制造方法

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