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【发明授权】一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置及方法_之江实验室;浙江大学_202310461722.6 

申请/专利权人:之江实验室;浙江大学

申请日:2023-04-26

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN116481983B

主分类号:G01N15/0227

分类号:G01N15/0227;G01N15/0205;G01N21/45;G01N21/85;G02B21/00;G02B21/06;G02B21/18;G02B21/36

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2023.08.11#实质审查的生效;2023.07.25#公开

摘要:一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置,包括连续激光器、多个透镜、空间滤波器、波片、一个偏振分束镜、功率计、物镜、样品台、和多个反射镜,连续激光器的激光经一组透镜扩束准直并空间滤波后进入12波片,进行偏振方向调节。调节后的偏振光进入偏振分束棱镜将激光分为P光与S光,S光经物镜后宽场照明样品,颗粒散射光与反射光经物镜收集后进入偏振分束棱镜,该S光在偏振分束棱镜出射口形成部分正交偏振。本发明还提供一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置的成像方法。本发明通过S光偏振照明并结合正交偏振原理,有效抑制背景反射光,提高了信号对比度;同时,结合干涉散射显微成像信号增强的优势,实现对样品表面小尺寸颗粒极弱信号的高信噪比检测。

主权项:1.一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置,其特征在于:包括偏振光源模块、照明光路、物镜(10)、样品台(11)、偏振分束镜(9)、成像模块以及调控和处理模块(16);其中,偏振光源模块产生平行偏振连续激光,经过照明光路后在样品上产生宽场探测光斑,样品颗粒的散射光与基底反射光经过物镜(10)收集后通过成像模块进行干涉成像;调控和处理模块(16)采集与处理图像,得到颗粒干涉散射信号;所述偏振光源模块包括依次设置的连续激光器(1)、准直透镜组第一透镜(2)、第一空间滤波器(3)、准直透镜组第二透镜(4)和半波片(5);所述连续激光器(1)发射线偏振光,经过准直透镜组第一透镜(2)、第一空间滤波器(3)、准直透镜组第二透镜(4)后调整为平行偏振光;所述平行偏振光通过半波片(5)旋转偏振方向,旋转方向后的线偏振光入射至照明光路;所述照明光路包括依次设置的第一全反镜(6)、可变光阑(7)、照明透镜(8);旋转方向后的线偏振光经过第一全反镜(6)反射后进入可变光阑(7)及照明透镜(8)后由偏振分束镜(9)分为两束,其中一束为反射S偏振光,另一束为透射P偏振光;透射P偏振光进入功率计(12)监测光强,通过调整半波片(5)使功率计(12)检测的透射P偏振光强最小;反射S偏振光汇聚于物镜(10)后焦面,经过物镜(10)后产生平行宽场光斑照射样品台(11)表面产生宽场照明光斑;样品台(11)上设有被检测样品颗粒,被检测样品颗粒的散射光与基底表面的反射光一起进入物镜(10)后,经过偏振分束镜(9)进行正交偏振抑制背景反射光后入射成像模块。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 之江实验室;浙江大学 一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置及方法

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