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【发明授权】原位光学腔室表面及处理传感器_应用材料公司_202080027448.6 

申请/专利权人:应用材料公司

申请日:2020-04-02

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN113661380B

主分类号:G01J3/12

分类号:G01J3/12;G01J3/02

优先权:["20190408 US 16/378,271"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2021.12.03#实质审查的生效;2021.11.16#公开

摘要:本文揭露的实施方式包含光学传感器系统及使用这些系统的方法。在一实施方式中,光学传感器系统包括:外壳及光学路径,所述光学路径穿过所述外壳。在一实施方式中,所述光学路径包括第一端及第二端。在一实施方式中,反射器位于所述光学路径的所述第一端处,且透镜位于所述反射器及所述光学路径的所述第二端之间。在一实施方式中,光学传感器进一步包括开口,所述开口在所述透镜及所述反射器之间穿过所述外壳。

主权项:1.一种光学传感器系统,包括:外壳,所述外壳被安置为穿过处理腔室的表面;光学路径,所述光学路径穿过所述外壳,其中所述光学路径包括第一端及第二端;反射器,所述反射器位于所述光学路径的所述第一端处,其中所述反射器由所述外壳支撑;及开口,所述开口在所述光学路径的所述第二端与所述反射器之间穿过所述外壳。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料公司 原位光学腔室表面及处理传感器

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